@InProceedings{SilvaTrav:2017:OtPaFi,
               author = "Silva, Bruna Henrique da and Trava Airoldi, Vladimir Jesus",
          affiliation = "{Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)} and {Instituto 
                         Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)}",
                title = "Otimiza{\c{c}}{\~a}o dos par{\^a}metros de filmes de DLC 
                         (Diamond Like Carbon) fun{\c{c}}{\~a}o da 
                         polariza{\c{c}}{\~a}o e largura do pulso em superf{\'{\i}}cie 
                         Ti6Al4V",
                 year = "2017",
         organization = "Semin{\'a}rio de Inicia{\c{c}}{\~a}o Cient{\'{\i}}fica e 
                         Inicia{\c{c}}{\~a}o em Desenvolvimento Tecnol{\'o}gico e 
                         Inova{\c{c}}{\~a}o (SICINPE)",
                 note = "{Bolsa PIBIC/INPE/CNPq}",
             abstract = "Com o avan{\c{c}}o tecnol{\'o}gico e a busca por novos materiais 
                         os filmes de carbonotipo diamante (DLC) s{\~a}o recentemente de 
                         grande interesse para grupos cient{\'{\i}}ficos e 
                         tecnol{\'o}gicos, isso deve-se {\`a}s suas propriedades, como 
                         alta ades{\~a}o do filme aos substratos met{\'a}licos, baixo 
                         coeficiente de atrito, diferentes formas e obten{\c{c}}{\~a}o em 
                         grandes escalas. Este trabalho consiste na obten{\c{c}}{\~a}o de 
                         uma rela{\c{c}}{\~a}o clara dos par{\^a}metros de descarga e 
                         gera{\c{c}}{\~a}o do plasma em fun{\c{c}}{\~a}o da alta 
                         tens{\~a}o de polariza{\c{c}}{\~a}o na deposi{\c{c}}{\~a}o do 
                         filme de DLC em substratos de liga de Tit{\^a}nio (Ti6AI4V) muito 
                         empregada em aplica{\c{c}}{\~o}es espaciais e industriais. A 
                         deposi{\c{c}}{\~a}o do filme foi realizada a partir da 
                         t{\'e}cnica de deposi{\c{c}}{\~a}o qu{\'{\i}}mica na fase 
                         vapor assistida por plasma (Plasma Enhanced Chemical Vapor 
                         Deposition - PECVD), esse m{\'e}todo trata-se de uma descarga em 
                         plasma de baixa press{\~a}o utilizando uma fonte chaveada pulsada 
                         para a gera{\c{c}}{\~a}o do plasma e deposi{\c{c}}{\~a}o dos 
                         filmes de DLC nos substratos. Uma mistura de hidrocarbonetos, como 
                         por exemplo, o metano (CH4), tolueno (C7H8) ou acetileno (C2H2) 
                         foram utilizados como precursores para a deposi{\c{c}}{\~a}o de 
                         DLC com alta ader{\^e}ncia sobre o substrato de Ti6Al4V. Foram 
                         efetuadas algumas t{\'e}cnicas de caracteriza{\c{c}}{\~a}o, 
                         como espectroscopia de espalhamento Raman, perfilometria e ensaios 
                         tribol{\'o}gicos que avaliaram a qualidade dos filmes e 
                         ades{\~a}o com o substrato utilizado.",
  conference-location = "S{\~a}o Jos{\'e} dos Campos, SP",
      conference-year = "25-26 jul.",
             language = "pt",
           targetfile = "Silva_otimizacao.pdf",
        urlaccessdate = "27 abr. 2024"
}